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国产刻蚀机取得新突破，尹志尧：相当于加工一个原子

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国产刻蚀机取得新突破，尹志尧：相当于加工一个原子发布日期：2025-01-23

作者/文森特编辑/嘉嘉 “我做刻蚀做了四十年，从来没有梦想到可以刻蚀到这种准确的程度”，日前，中微公司董事长、总经理尹志尧对外表示，中微半导体已经实现技术突破，氧化硅、氮化硅、多晶硅三种材料均可以实现0.02纳米的准确度，“相当于每次加工一个原子。” 要知道，目前全球刻蚀机巨头 LAM Research、TEL 等国外刻蚀机巨头其量产能力还停留在5nm、3nm阶段，虽然中微半导体的0.02nm只是在实验室取得成功，距离量产还有技术难关，但这一成果不仅意味着中国半导体在刻蚀机领域取得技术领先优...

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